高频窄脉冲微弧氧化电源的研制

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微弧氧化技术是在普通阳极氧化技术的基础上发展起来的一种直接在有色金属原位生成陶瓷膜的新兴表面处理技术,该技术形成的陶瓷层与基体之间的结合属于冶金融合,因此其表面形成的陶瓷层与基体结合牢固,结构致密,能显著的提高有色金属的耐磨、耐热、耐蚀和绝缘性能,该技术正成为国际材料表面工程技术领域的一个研究热点。对于微弧氧化处理工艺,有研究表明,微弧氧化电源的输出频率越高,所生成的陶瓷膜越致密,膜层性能越好,而目前的微弧氧化电源输出频率均较低,因此设计和研制高频窄脉冲微弧氧化电源,能显著提高输出频率,提高微弧氧化膜层性能。本文首先确定了电源的总体方案,采用两级逆变主电路拓扑结构,同时根据控制需求设计了以DSP为控制核心的控制系统。完成了主电路中磁性元件的设计、功率开关器件的选型、高频驱动电路的设计和主电路PCB板的制作。设计了以dsPIC33FJ64GS610为核心的控制系统,包括采样电路、开关量控制电路、保护电路、通讯接口电路和人机交互接口电路等。完成电源控制程序的设计与调试,包括PWM控制程序、A/D采样程序、PID控制程序、LCD显示及按键程序等。搭建高频窄脉冲微弧氧化电源硬件平台,分别在恒压和恒流两种控制模式下对电源进行调试,实现了直流、直流脉冲、对称交流和不对称交流四种模式的输出,可灵活设置波形参数实现多种波形的输出,以满足各种微弧氧化处理工艺要求。电源输出脉冲频率最高可达20kHz,输出脉冲宽度可减小至20us,且能实现对单个窄脉冲能量的精确控制。在输出高频脉冲条件下进行微弧氧化处理,随输出频率的提高,膜层的表面粗糙度降低,有利于微弧氧化处理工艺。
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