提高光刻机的定位精度，是光刻机研究的主要方向，光刻机越来越高的运动精度，对于周围环境的要求也越来越高，而周围环境的振动干扰以及光刻机工作时产生的振动干扰，会对光刻机的运动精度产生影响，因此需要对光刻机采取隔振。由于以前的被动隔振对于1-100Hz的低频振动隔振效果差，而主动隔振对于低频振动有好的隔振效果，因此光刻机隔振采用主动隔振。本文首先回顾了国内外在隔振技术的发展现状，从被动隔振、半主动隔振以及主动隔振三个方面对国内外隔振技术的发展现状进行分析，总结了三种隔振技术的优缺点。主动隔振相对于前面两种隔振，由于有外界能量的参与以及能够隔离低频振动干扰，因此成为现在隔振的主要发展趋势。结合光刻机的工作特点以及对主动隔振的性能要求，采用3个气垫式隔振器作为光刻机隔振平台的减振器，这是光刻机主动隔振的总体架构。同时对气垫式隔振的工作原理、执行机构以及传感器进行简要介绍。为了对光刻机主动隔振性能进行分析，采用刚体动量方程推导了光刻机主动隔振的六自由度动力学模型，由于其动力学模型是一个多输入多输出的耦合模型，为了简化控制器的设计，因此采用模态控制对其模型进行解耦，将其变为单输入单输出模型，然后采用位置反馈和速度反馈控制作为其主动隔振控制方法，在分析了各个控制参数对主动隔振控制效果的影响后，完成整个控制器的设计并进行了仿真验证。继而从光刻机主动隔振控制卡入手，结合光刻机主动隔振的总体架构，设计了主动隔振控制卡，并详细介绍了其硬件设计电路。由于硬件控制卡采用FPGA的NIOS II软核，因此采用QSYS软件对其软核进行配置。最后，基于LabVIEW软件编写了光刻机振动测试界面，对整个振动测试软件的主要功能模块进行介绍，然后采用振动测试软件对光刻机在隔振平台上工作时垂直方向的振动进行初步测试分析。