【摘 要】
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随着光刻机技术水平的提高,特征线宽的尺寸减小到纳米级,对光刻机对准系统提出了更高对准精度的性能指标。本论文首先介绍了各种相位光栅对准系统的原理和特点;接着阐述对准
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随着光刻机技术水平的提高,特征线宽的尺寸减小到纳米级,对光刻机对准系统提出了更高对准精度的性能指标。本论文首先介绍了各种相位光栅对准系统的原理和特点;接着阐述对准信号以及系统中影响对准信号的因素;其次分析影响相位光栅对准标记衍射效率的主要因素槽深、占空比和反射率;最后通过建立相位光栅对准标记非对称变形的计算模型,分析标记的各级衍射效率和对准误差;并把本文所得结果与仿真软件结果进行比较,两者得到了很好的吻合。本课题有较重大的研究意义,为分析变形标记的衍射效率和对准误差提供了计算分析模型,为提高对准精度提供了依据,具有一定的实际意义。
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