改性硅溶胶制备及其对蓝宝石抛光性能的研究

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【摘要】

：

化学机械抛光(CMP)是目前最普遍的表面加工技术,是公认的唯一可以实现全局平坦化的抛光方法。磨料作为CMP中的重要组成部分,直接影响抛光工件加工后的表面质量。本文以水玻璃为原料,采用离子交换法制备了大粒径硅溶胶,并在此基础上,通过化学沉淀法,对纯硅溶胶进行铈锆、铈钙改性,制备抛光用CeO2/ZrO2/硅溶胶复合磨料及CeO2/Ca(OH)2/硅溶胶复合磨料。对各产品生产过程的设备选型、经济效益、环

【作者】

：

张雷

【机构】

：

合肥工业大学

【发表日期】

：

2018年04期

【关键词】

：

硅溶胶复合磨料铈锆掺杂铈钙掺杂化学沉淀法蓝宝石晶片抛光性能

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