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本工作利用螺旋波等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅和康宁玻璃衬底上制备了非晶及纳米晶硅薄膜。通过傅立叶变换红外吸收光谱、紫外—可见透射光谱、原子力显微镜等多种技术手段,对薄膜的成分、键合结构、形貌、光学带隙、沉积速率等性质进行了表征和分析。研究了氢气流量和薄膜生长厚度等实验参量对薄膜微观结构和光学性质的影响,根据典型非晶、晶态结构薄膜的制备条件,设计制备了非晶硅/纳米晶硅多层膜结构,并对其微观结构和光学特性进行了研究。通过改变氢气的流量,制备了不同氢含量的硅氢薄膜,研究结果表明低氢环境下沉