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光栅微结构尺寸在微米亚微米量级、口径达到上百毫米甚至米级的大尺寸平面光栅,在新一代光刻机等超精密加工测试装备、惯性约束核聚变等大科学装置和工程中应用越来越广,在当代科学技术和先进军事科学技术领域起着至关重要的作用。衍射波前是平面光栅的重要性能指标,衍射波前质量由光栅微结构质量决定,其中光栅整体的平面度,以及光栅周期的分散性是造成衍射波前畸变的主要原因,是衍射波前质量的决定性因素。对光栅整体的平面度和光栅周期分散性进行测量和评价具有重要研究和应用价值。针对上述研究背景,本课题“大尺寸光栅平面度与周期分