【摘 要】
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该文研究了理想成像系统串级散斑一阶和二阶统计性质,通过计算机模拟和实验进一步讨论了散斑场的统计性质,包括正态散斑形成的条件,场振幅的概率密度,动态串级散斑的时间自相
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该文研究了理想成像系统串级散斑一阶和二阶统计性质,通过计算机模拟和实验进一步讨论了散斑场的统计性质,包括正态散斑形成的条件,场振幅的概率密度,动态串级散斑的时间自相关函数与散射屏运动速度、表面性质等参数之间的关系.模拟时采用了一种新的方法产生随机表面,在讨论正态散斑形成的条件时,发现当散射屏粗糙度大于0.5λ时,散斑场性质有突变,此时概率密度分布呈负指数分布,散斑场对比度接近1.在串级散斑动态性质模拟研究中也发现,散射屏运动速度和相关时间的倒数呈线性关系,当运动散射屏的粗糙度大于0.5λ时,曲线的斜率随着粗糙度增加而增加,当粗糙度小于0.5λ,以上结论不存在.此外还发现曲线的斜率随散射屏表面相关长度增加而减小,这些与理论推论相吻合.我们还模拟了串级散斑和一次散射的等概率密度椭圆,模拟结果显现串级散斑比一次散射的散斑更快地趋于正态散斑.最后,我们通过实验研究了动态散斑一些性质,并将实验结果与理论和计算机模拟结果进行了比较.
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