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本论文研究了非均匀基底上亚单原子层薄膜与多层薄膜的生长行为,考察了基底的非均匀性对原子扩散、聚集过程的影响。 非均匀基底上薄膜生长的计算机模拟是一个较新的课题研究领域。首先,我们通过对用分子束外延薄膜制备过程的理论分析,建立了非均匀基底的计算机模拟模型,由于真实的基底表面不可能完全理想,存在着一定的缺陷或杂质,不管是何种因素我们可以概括为基底的非均匀性。但研究真实基底的非均匀性对原子的聚集生长过程不是很方便,我们采用只有二种格子类型的棋盘式基底模型。这种基底模型能在一定程度