超硬微结构光学功能表面的ELID磨削加工技术研究

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微结构光学功能表面因其所具有的特殊的光学性能在光电子、机械、航空航天等领域具有重要的应用价值,其批量化生产多采用复制模压技术,针对于模具材料高硬度耐磨损的性质,超精密磨削是目前最为行之有效的加工方法,但针对于超硬材料的超精密磨削的效率有限。而ELID磨削技术(Electrolytic In-ProcessDressing,又称在线电解修锐技术)作为一种成熟的辅助磨削技术,因其可以大幅度的提高磨削效率和加工后的表面质量而在工业领域得到了较为广泛的应用。本文通过对国内外超硬材料微结构ELID加工研究现状的分析总结,认为采用ELID对超硬材料微结构进行磨削可以提高磨削后的加工质量和磨削效率。故采用现有V形结构砂轮及ELID电解修锐系统,依据实验室现有设备条件,对碳化硅和碳化钨两种超硬材料进行微结构加工。首先采用电火花修整方案对磨削微结构用金刚石砂轮进行精密修整,针对微结构加工的特点对ELID电极进行重新设计,拟定工艺方案,完成磨削用实验台的搭建。在此基础上对磨削方式、ELID电源参数、ELID电极间距及光磨次数对于微结构ELID磨削加工的影响进行了实验研究,通过对比分析确定了高效深磨、较低的电源参数,0.8mm的电极间距及光磨两次是ELID磨削的最佳工艺参数。其次根据正交实验设计及分析原理,对氮化硅和碳化钨两种材料的ELID磨削和普通磨削进行对比实验研究,主要考量磨削深度、进给速度和砂轮转速对于加工后V形槽的底角圆弧半径、夹角圆弧半径及两侧面的表面粗糙度和面形精度的影响。通过对结果的对比分析,确定了进给速度是影响V形槽尖角特性的主要参数,磨削深度主要影响V形槽的表面质量,而砂轮转速对于微结构加工的影响并不大。最后采用截面显微镜法对两种材料加工后V形槽的亚表层损伤进行了实验研究,实验中分别采用扫面电镜和纳米压痕两种检测方法对亚表层损伤进行检测,通过对比发现随着磨削深度的增大会带来亚表层损伤深度的增加,而ELID磨削后的亚表层损伤要低于普通磨削。相对来说,采用扫描电镜法观察更为直接,但很难观测到因磨削造成的微裂纹,而相对来说纳米压痕的结果更为准确,测得在磨削深度为300μm时,碳化钨的亚表层损伤层厚度为16.4μm。
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