CVD法Sb掺杂SnO_2薄膜的制备、性能及应用研究

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本论文全面介绍了节能镀膜玻璃,特别是低辐射镀膜玻璃的发展概况、节能特性、原理、低辐射膜的种类以及常用的制备方法等,并总结得出高掺杂宽禁带半导体材料如SnO2等以其优良的光电性能、低廉的原料价格和方便的制备工艺,能够成为经济性节能镀膜玻璃的主要膜层原料。常压化学气相沉积法以其设备简单、成本低、易实现大面积镀膜等优点成为一种很有应用潜力的制备SnO2薄膜的方法,在镀膜玻璃的工业化生产中有广阔的
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