基板温度相关论文
通过真空热蒸发技术沉积得到一种耗锌量少且性能良好的锌镀层,研究了不同基板温度对所得锌镀层组织形貌、微观结构、腐蚀行为和附......
非晶铟镓锌氧化物(IGZO)凭借其简单的制备工艺,以及优异的迁移率能而成为TFT制备的理想材料.本文采用直流磁控溅射方法在玻璃基板......
研究了基板初始温度对激光金属直接成形(Laser Metal Direct Forming,LMDF)DZ125L单道和薄壁墙精度的影响；比较了单向扫描和往复式......
测试结果证实基板温度取决于外部因素以及基板本身的光学性质的共同作用。外部因素定义为除了基板本身之外的所有可能的原因。通常......
本文介绍了用氧-乙炔火焰法在大气下合成金刚石薄膜的实验结果,初步研究了基板温度对金刚石晶体生长速度、结晶习性的影响,指出了......
本文研究了基板温度和水汽对直流磁控溅射法制备的IT0薄膜的光电特性的影响.IT0薄膜在低温成膜后,经过大气退火处理.通过降低成膜......
使用真空直流磁控溅射技术在DI材表面制备Al膜,并对镀铝DI材的可加工性与制备条件及铝膜的厚度之间的关系进行了研究.杯凸和冲杯试......
随着实际应用的LED产品的功率越来越大，其散热量也随之增大，对散热要求也逐步提高，传统的散热方式已经不能满足大功率LED路灯的要求。......
本研究所在大量地研制红外光学薄膜的实践中发现，采用富碲碲化铅代替普通碲化铅作源不仅可以免去充氧或烘烤等附加工艺，使沉积的薄膜......
会议
近年来，准分子激光器快速发展，并得到广泛应用，推动了紫外薄膜研究的发展。大多数材料在紫外波段呈献明显的吸收，目前对193nm紫外薄膜......
本论文全面介绍了节能镀膜玻璃,特别是低辐射镀膜玻璃的发展概况、节能特性、原理、低辐射膜的种类以及常用的制备方法等,并总结得......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
采用双靶磁控溅射镀膜系统,在普通玻璃表面沉积ITO膜层,研究了基板温度和工艺气体对薄膜光电性能的影响.实验结果表明:当基板温度......
用干涉法研究了热蒸发（ＰＶＤ）方法制备的ＣｄＴｅ薄膜材料的红外光学特性．通过对不同基板温度和不同薄膜厚度ＣｄＴｅ薄膜样品的研究，确定了在薄膜沉积过程中......
...
在不同沉积时间和基板温度下，采用反应磁控溅射的方法在~6ABV基板上沉积TiN薄膜，溅射过程中固定溅射总压、溅射功率、氮氩流量比等沉......
采用动态蒙特卡罗（KMC）方法研究物理气相沉积（PVD）制备薄膜过程中基板温度对薄膜微观结构的影响，并用分维理论研究薄膜表面的复杂程度。......
Biohydrogen Production from Synthetic Waste Co-digested with Liquid Dairy Cow Manure： Effect of Temp
...
为进一步提高多晶硅薄膜的晶化率，采用真空蒸镀法结合金属铝诱导退火处理在玻璃衬底上制备了掺杂磷的多晶硅薄膜。采用扫描电镜、激......
采用EB-PVD方法共蒸发Al-Al2O3-YSZ混合源,在高温合金基体上沉积了梯度热障涂层.研究表明,基板温度显著地影响着梯度热障涂层的微......
研究了利用微波等离子体化学气相沉积方法制备的金刚石膜的拉曼光谱，讨论了金刚石膜中的非金刚石碳相与甲烷浓度、基板温度之间的关......
采用单质Ｆｅ、Ｎｄ、Ｂ组成的靶，用对向靶溅射系统制备出了含有Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ相的薄膜。发现Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ相能够较好地形成的基板温度范围是５００℃￣６００℃。并且相对于热氧化硅基......
文章研究了在实际生产过程中，真空磁控溅射设备下制备ITO膜时，高温成膜过程中环境中的氧气分压对ITO薄膜的光电特性的影响。P-ITO指......
针对电子束物理气相沉积（EB-PVD）设备的特点，研究基板温度对材料形成过程的影响。首先建立薄膜生长的基本扩散模型，然后用嵌入原子法（EA......
采用电子束沉积的方法，在紫外熔凝石英基片上制备了LaF3单层膜．研究了基板温度对LaF3薄膜紫外光学性能的影响，基板温度从200℃上升到3......
以单丁基三氯化锡(MBTC)和SbCl3为反应原料,采用常压化学气相沉积法(APCVD法)在不同的基板温度下制备Sb掺杂SnO2薄膜,用XRD、SEM表......
-CuI 薄电影被一个喷洒的方法作为试剂作为溶剂， CuI 和碘用 acetonitrile 准备。CuI 电影的结构，地形学，和光性质上的底层温度的影响......
用电子束蒸发方法制造了Al2O3、LaF3单层膜,对比研究了沉积速率和基板温度对薄膜紫外（193 nm）光学特性、微结构的影响.实验结果表明,......
Mycelium Growth and Yielding of Black Poplar Mushroom-Agrocybe aegerita （Brig.） Sing. on Different S
...
采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2（antimony-dopedt in oxide，ATO）薄膜。研究了基板温度、基板输......
本实验采用真空镀膜技术,在不同的蒸发电流、基板温度和退火温度下制备酞菁铜薄膜。通过激光扫描显微镜（LSM）测试薄膜的表面形貌和粗......
Abrasive wear behavior of cast iron coatings plasma-sprayed at different mild steel substrate temper
三种生铁涂层被大气的血浆喷洒准备。在喷洒期间，低碳钢底层温度被控制是平均 50， 180，和 240 ? ¤......
Influence of the preheated substrate temperature on the microstructure deposition behavior of the 30
The effects of the substrate temperature on the deposition and microstructure of the 304 stainless steel (SS) cold gas d......
基于椭球模型,模拟了不同基板温度条件下超疏水表面上固着纯水液滴的蒸发过程,探究了蒸发过程中液滴蒸发时间、接触角演变行为、液......
采用选择性激光熔覆法,在基板温度分别为100,150,和200℃条件下制备M2粉末高速钢合金,分析基板温度对合金组织结构与力学性能的影......
用干涉法研究了热蒸发（ＰＶＤ）方法制备的ＣｄＴｅ薄膜材料的红外光学特性，通过对不同基板温度和不同薄膜厚度ＣｄＴｅ薄膜样品的研究，确定了在薄膜沉积过程中......
文章介绍了激光干涉测温原理．测试装置及测试结果与普通方法的比较．从而说明此法的优点。......
常压化学汽相淀积(APCVD)硼/磷硅玻璃膜(BPSG)已经确定了最佳条件,能更有效地利用反应剂,得到颗粒杂质比以前少得多的玻璃膜。这些......
采用冷气动力喷涂方法在不同温度的基板表面制备了304不锈钢涂层,研究了基板温度对冷喷涂涂层组织及沉积特性的影响。试验结果表明......
以C4H4SnCl3和SbCl3为反应先驱体,采用常压化学气相沉积法制备Sb掺杂SnO2薄膜,研究了薄膜沉积时间、基板温度以及Sb掺杂量对薄膜结......
采用电子束沉积的方法,分别在K9玻璃基片上制备了LaF3单层膜.研究了基板温度对LaF3薄膜残余应力的影响;基板温度从200℃上升到350......
采用三步热舟蒸发制作法研制了真空紫外Al/MgF2反射镜,研究了改善制备工艺有效提升反射率的方法。在两层Al/MgF2反射镜制备过程中,......
期刊
<正> 一、引言在真空镀膜中基板的清洁处理是直接影响薄膜质量的关键之一。实验表明,轰击处理能大大提高薄膜与基板的结合力。例如......
文章研究了在实际生产过程中,真空磁控溅射设备下制备ITO膜时,高温成膜过程中环境中的氧气分压对ITO薄膜的光电特性的影响。P-ITO......
磁控溅射自20世纪70年代诞生以来,因较高的沉积率和成膜质量而成为薄膜制备的重要手段之一,被广泛应用于集成电路制造、特殊功能材......
