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近年来,半导体光电催化技术因其具有能耗低、反应条件温和、能高效去除污染物及无二次污染等优点在环境保护领域中得到了长足的发展。在众多光催化剂材料中,WO_3的禁带宽度较适宜(2.4~2.8 e V),可吸收利用约12%的太阳光,此外还具有较强的抗光腐蚀性,因此在光(电)催化领域具有广阔的应用前景。但WO_3存在的半导体/电解质界面电荷传输较慢及光生载流子容易复合的缺点限制了其在实际中的应用,此外基底的选择也是影响光电催化过程的关键性因素之一。不锈钢具有优越的机械性能、良好的导电性和耐腐蚀性能,是一种理