【摘 要】
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该文研究微光学元件制作的几种新工艺,包括二元光学工艺及几种连续浮雕轮微光学元件的制作工艺,讨论了各种制作技术的优点和缺点以及各种工艺的应用状况.利用ISI-2802激光直
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该文研究微光学元件制作的几种新工艺,包括二元光学工艺及几种连续浮雕轮微光学元件的制作工艺,讨论了各种制作技术的优点和缺点以及各种工艺的应用状况.利用ISI-2802激光直写系统制作了模拟灰度变化的掩模板,用来曝光,一次性地在光刻胶上形成了折射型微透镜列阵结构,设计添充因子为100﹪,微透镜表面轮廓良好,达到了实用的要求.
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