近年来,随着光学精密器件要求的不断提高,基于空间光调制器的投影光刻技术凭借其高效率引起了广泛关注。作为代表性的例子,基于数字微镜器件（DMD）的数字光刻,凭借DMD芯片的灵活图案生成模式,提供了较快的处理速度,广泛应用于微机电系统（MEMS）、微光电系统（MOEMS）、微流控加工等相关领域。尽管DMD数字光刻技术具有高度数字化、操作灵活性强、光刻成本低等优势,但由于传统的基于DMD光刻技术是静态曝光,导致光刻图形受到DMD微镜周期的限制。这种情况下,光刻图形的空间分布及尺寸仅能为DMD微镜周期的整数倍,极大地限制了基于DMD的数字光刻的应用灵活性。因此,本文针对上述问题开展相关研究,提出了一种新的光刻策略——基于DMD的多步光刻技术（DMSL）。该技术结合了剂量调制、二维压电平台的高分辨率运动以及DMD的灵活图案生成。依据上述策略,开展相关工作:（1）针对DMD微镜周期限制了光刻图形空间分布这一问题,以实现用户自定义周期点阵结构为例进行说明。对于任意预设点阵而言,建立数学模型N₁×d=N₂×D,通过调节初始图案和PZS的位移距离,经过多次曝光即可获得任意周期点阵结构。在上述理论指导下,实现了具有不同六边形周期（3μm,3.5μm和4μm）的点阵结构。并且在此基础上,结合剂量调制技术,实现了具有亚像素分辨率的点阵结构。（2）针对光刻图形尺寸受到DMD周期限制这一问题,以制造用户自定义形状微结构阵列为例进行说明。通过DMD的初始图案确定阵列的空间分布,通过PZS的移动轨迹调节微结构的形状。基于Matlab软件模拟和实际光刻两方面对该策略进行检验,实现了用户自定义直线型/曲线型的周期/非周期微结构阵列,突破了原有的尺寸限制,验证了上述光刻策略的实用性和优越性。