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半导体光催化材料Ti02具有化学性质稳定、光学特性明显、价格低廉等优点,广泛应用于废水处理、空气净化、尾气处理等领域。由于Ti02只能吸收波长小于387nm的紫外光和较低的量子效率,导致其光催化效率低,严重影响了光催化性能。本文通过N掺杂、Fe修饰、Pd修饰等方法,对Ti02进行改性,以使其获得更优异的光催化活性。采用磁控溅射法制备N掺杂TiO2薄膜(TiON),研究了氮分压、衬底温度和溅射气压对TiON薄膜结构、形貌和性能的影响。结果表明：TiON薄膜为单一锐钛矿相结构；随氮分压和溅射气压增加,薄