【摘 要】
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介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术 ,使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源 (GIS)。GIS可以产生大面积的均匀等离子体 ,直径大于 1 0 0 0mm
【机 构】
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中国科学院空间科学与应用研究中心!北京100080,中国科学院空间科学与应用研究中心!北京100080,北京仪器厂!北京100022,北京理工大学!北京100081
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介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术 ,使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源 (GIS)。GIS可以产生大面积的均匀等离子体 ,直径大于 1 0 0 0mm。等离子体离子流强度高达 0 .5mA/cm2 ,离子流能量 2 0 - 2 0 0eV ,并能激活反应气体O2 及蒸发原子 ,用GIS进行的等离子体离子辅助镀膜这一技术 ,现正用于生产高质量的光学薄膜。
Introduces a new plasma-assisted coating technology that enables the mass production of high-quality optical coatings. The core of this technology is a gridless plasma source (GIS). GIS can produce a large area of uniform plasma, diameter greater than 1 0 0 0mm. Plasma ion current intensity of up to 0.5mA / cm2, the ion current energy 20 ~ 20eV, and can activate the reaction gas O2 and evaporation of atoms, using plasma ion-assisted plasma assisted coating technology that is now being used in the production High quality optical film.
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