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分析了全球EUV光刻胶领域专利申请态势、主要申请人和技术分布,重点介绍了基体树脂和光产酸剂结构改进方面的技术热点,并展示了有价值的专利技术信息。
EUV光刻胶专利分析及技术热点综述
【摘 要】
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分析了全球EUV光刻胶领域专利申请态势、主要申请人和技术分布,重点介绍了基体树脂和光产酸剂结构改进方面的技术热点,并展示了有价值的专利技术信息。
【机 构】
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国家知识产权局专利局审协北京中心;
【出 处】
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现代化工
【发表日期】
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2004年期
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