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研制了一台高速率溅射的ＥＣＲ等离子体沉积装置。采用微波真空波导及反常模式或输入技术，利用腔内双靶构成的电场镜，使高能γ电子在电场镜中振荡，从而获得高密度的等离子体。并且，导电膜能连续高速沉积，在２．７×１０＾－２Ｐａ的低气压下，铜膜的沉积速率可达１２０ｎｍ／ｍｉｎ。
微波ECR等离子体高速溅射装置的研制
【摘 要】
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研制了一台高速率溅射的ＥＣＲ等离子体沉积装置。采用微波真空波导及反常模式或输入技术，利用腔内双靶构成的电场镜，使高能γ电子在电场镜中振荡，从而获得高密度的等离子体。并且，导电
【机 构】
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武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室,中科院等离子体物理研究所
【出 处】
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华中理工大学学报
【发表日期】
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1999年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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