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KLA—TENCOR推出新型计算光刻工具
KLA—TENCOR推出新型计算光刻工具
来源 :中国集成电路 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xia__1989
【摘 要】
:
KLA—Tencor公司近日推出了PROLITHTM12,这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线(EU
【出 处】
:
中国集成电路
【发表日期】
:
2008年11期
【关键词】
:
光刻材料
KLA
工具
计算
芯片制造商
成本效益
研究人员
研发机构
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KLA—Tencor公司近日推出了PROLITHTM12,这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线(EUV)光刻有关的各种光掩模设计、光刻材料及工艺的可行性。
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