【摘 要】
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采用粉末靶射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备氟掺杂二氧化锡(FTO)薄膜。结果表明:制备的样品为多晶薄膜,具有二氧化锡的四方金红石结构。沉积气氛的含氧量增加,会使薄膜的主要
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采用粉末靶射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备氟掺杂二氧化锡(FTO)薄膜。结果表明:制备的样品为多晶薄膜,具有二氧化锡的四方金红石结构。沉积气氛的含氧量增加,会使薄膜的主要择优取向由(211)转变成(110)。除沉积气氛中无氧的超厚薄膜外,其他FTO可见光区平均透光率可达90%。
Fluorine-doped tin oxide (FTO) thin films were prepared on glass substrates by RF target magnetron sputtering. The results show that the prepared samples are polycrystalline thin films with tetragonal rutile structure with tin dioxide. The oxygen content of the deposition atmosphere increases, the film will be the main preferred orientation from (211) into (110). In addition to the deposition of oxygen-free ultra-thick film, the average FTO visible light transmittance of up to 90%.
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