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采用磁控溅射方法制和轩了Ｓｎ衰减膜，应用真空α能谱测厚仪和α－ｓｔｅｐ１００台阶仪分别测得Ｓｎ衰减膜的质量厚度为４５０．３μｇ／ｃｍ＾２，表面不均匀性〈３％，质量厚度和表面均匀性的测试结果均符合软Ｘ光激光实验的要求，利用俄歇电子能谱对Ｓｎ膜表面杂质及表面氧化情况并结合Ａｒ离子束刻蚀对氧含量深度分布情况进行了分析，分析结果表明：Ｓｎ膜暴露在空气中而氧化生成一定厚度的氧化层，其主要成分是ＳｎＯ２和Ｓｎ