【摘 要】
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２０００１２０１ 原位退火时磁控溅射Ｎｄ１Ｂａ２Ｃｕ３Ｏ７－δ薄膜的影响——Ｍｏｒｉ Ｚ．Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ，１９９９，３５４（１～２）：１９５（英文） ＮｄＢａ２Ｃｕ３３Ｏ７－δ（ＮＢＣＯ）薄膜经原位退火后，薄膜质量得到改善。用单靶直流磁控溅射
Influence of Magnetron Sputtering Nd1Ba2Cu3O7-δ Thin Film on
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２０００１２０１ 原位退火时磁控溅射Ｎｄ１Ｂａ２Ｃｕ３Ｏ７－δ薄膜的影响——Ｍｏｒｉ Ｚ．Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ，１９９９，３５４（１～２）：１９５（英文） ＮｄＢａ２Ｃｕ３３Ｏ７－δ（ＮＢＣＯ）薄膜经原位退火后，薄膜质量得到改善。用单靶直流磁控溅射
Influence of Magnetron Sputtering Nd1Ba2Cu3O7-δ Thin Film on In-situ Annealing - Mori Z. Thin Solid Films, 1999, 354 (1 ~ 2): 195 (English) Film quality is improved after NdBa2Cu33O7-δ (NBCO) thin films are annealed in situ. Single target DC magnetron sputtering
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