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Elpida Memory公司开发出制造高性能DRAM产品的90nm工艺。90nm是继100nm之后的下一代硅晶片制造工艺尺寸。采用这一工艺后，可缩小每个芯片的尺寸，而且总体生产效率也得到提高，可实现单个晶片制造出更多硅芯片。这种90nm工艺技术将首先应用到明年开始生产的高性能512Mb和1Gb DDR2 SDRAM产品上。Elpida新的90nm生产线将采用KrF光刻技术，