【摘 要】
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介绍标准ＩＣ工艺与使用ＫＯＨ或ＥＤＰ（乙二胺－焦儿苯酚混合物）进行本体微机械加工的集成方法。钼被用作最终金属化材料是因为它具有耐ＫＯＨ或ＥＤＰ腐蚀的本领。采用真空退火为的是增强钼对氮化物层的粘附
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介绍标准ＩＣ工艺与使用ＫＯＨ或ＥＤＰ（乙二胺－焦儿苯酚混合物）进行本体微机械加工的集成方法。钼被用作最终金属化材料是因为它具有耐ＫＯＨ或ＥＤＰ腐蚀的本领。采用真空退火为的是增强钼对氮化物层的粘附性，这对ＫＯＨ腐蚀是非常重要的。实验表明这些特殊工艺步骤对ＭＯＳ器件特性毫无影响
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