【摘 要】
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以CH4为放电气体，利用电感耦合等离子体化学气相沉积（ICP—PECVD）法制备了类金刚石薄膜，使用FTIR、AFM、台阶仪对薄膜进行了表征，并对薄膜的沉积过程进行了光谱诊断（OES）．研究了射频
【机 构】
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大连交通大学机械工程学院,大连民族学院光电子技术研究所
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以CH4为放电气体，利用电感耦合等离子体化学气相沉积（ICP—PECVD）法制备了类金刚石薄膜，使用FTIR、AFM、台阶仪对薄膜进行了表征，并对薄膜的沉积过程进行了光谱诊断（OES）．研究了射频功率和基底在放电腔体中的位置对薄膜表面粗糙度、沉积速率和硬度的影响．实验结果表明：A位置处薄膜粗糙度随着功率的增加先减小后增大，随着射频功率的升高，薄膜的硬度逐渐增大，沉积速率先增大后减小，而薄膜硬度和沉积速率都随着与线圈中心距离的增加而减小．光谱诊断结果显示，随着功率的升高，Iβ/Iα和CH的强度呈增大趋势．结
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