在市场竞争日趋激烈、企业经营不断多元化的今天,技术创新逐渐成为推动高新技术企业发展的不竭动力,而代表高新企业技术创新能力的R&D投入在提升企业竞争力、提高企业经济效益等方面发挥着重要作用。然而,我国目前高新技术企业中普遍存在着技术创新的整体水平不高、R&D投入偏低的基本事实。本文通过实证研究,对我国高新上市企业高管团队的背景特征、高管激励及企业R&D投入进行了考查,并对他们之间的相关关系进行了探索性的分析,在此基础上为我国高新技术企业提出了一些提高R&D投入水平的建议,同时也为后续的相关研究提出展望。本文首先回顾了高管团队背景特征、高管激励与企业技术创新的一般理论和相关研究,并且有针对性地提出了本研究的关键假设。然后,本文以2009年我国105家高新技术上市企业为研究样本,选取了衡量高管团队背景特征的六项指标、衡量高管激励的三项指标及衡量企业R&D投入的两项指标,构建了回归分析模型。通过对数据的相关性分析和回归分析以及对所提假设的检验,本文构建了高管团队背景特征、高管激励与企业R&D投入之间关系的调节效应模型。本文的研究结果表明：(1)高管团队背景特征显著影响着企业的R&D投入；(2)高管激励正向促进了企业的R&D投入；(3)高管激励在高管团队背景特征与企业R&D投入之间关系中起到了显著的调节作用。最后,本文还总结和归纳了本研究存在的不足,并从研究结论出发提出构建优秀的高管团队和高管治理机制以促进企业R&D投入的对策和建议,对后续的相关研究也提出了展望和设想。