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首先介绍了稳定FEA电子发射均匀性和可靠性的几种结构,然后提出了以离子注入和干法刻蚀技术,在常规电阻率P型衬底上制成具有串联电阻负反馈特性的单片硅FEA.这些设计和工艺可供研究人员在设计具体FEA电子源的不同应用领域,如平版显示器、微波真空器件、微真空传感器时作参考.
提高FEA电子发射可靠性和均匀性的几种结构
【摘 要】
：
首先介绍了稳定FEA电子发射均匀性和可靠性的几种结构,然后提出了以离子注入和干法刻蚀技术,在常规电阻率P型衬底上制成具有串联电阻负反馈特性的单片硅FEA.这些设计和工艺可
【机 构】
：
华东师范大学电子科学技术系,上海,200062;中科院上海冶金所离子束开放实验室,上海 200050
【出 处】
：
微细加工技术
【发表日期】
：
2004年期
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