基于神经细胞活性评价高功率微波照射安全性研究

来源 :中华放射医学与防护杂志 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Jiangzi1125
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读

目的 研究平均功率密度5 mW/cm2的高功率微波(HPM)对神经细胞活性的影响,为制定微波照射的安全标准提供参考数据.方法 出生后12 h内Wistar大鼠乳鼠皮层神经细胞常规培养7 d后,进行HPM照射.采用细胞内ATP酶活性测定法,检测HPM对原代培养神经细胞总ATP酶、钙镁ATP酶和钠钾ATP酶活性的影响,并用MTT法检测照射后细胞琥珀酸脱氢酶(SDH)活性的变化,观察时间点分别为HPM照射后1和6 h,1、3和7 d.结果 原代培养神经细胞经平均功率密度5 mW/cm2的HPM连续照射6 min后,同一时间点内HPM照射组和对照组之间细胞SDH活性和各ATP酶活性均无显著差异.结论 平均功率密度为5 mW/cm2的HPM照射对原代神经细胞的活性无显著影响,提示就神经细胞活性而言,该功率密度的HPM照射是安全的。

其他文献
利用等离子源离子注入 (PSII)技术对冷作模具钢材料Crl2MoV进行不同温度范围的处理 ,研究了温度在离子注入中对材料表面改性的影响。首先 ,在参数 (如能量、剂量等 )相同条件
用苯作工作气体 ,在一个电子回旋共振 (ECR)微波等离子体化学气相沉积系统中制备了含氢非晶碳膜 (a -C :H) .对苯等离子体作了质谱分析 ,发现苯分解后形成的主要基团是C2 H4
推导出光刻成像的计算机模拟公式 ,讨论了光瞳滤波提高光刻分辨率的物理机理 ,给出了几个实验结果。提出逆傅利叶变换卷积滤波提高光刻分辨率的原理及方法 ,并和光瞳滤波进行
用溶胶-凝胶 (Sol Gel)方法制备了有PbTiO3(PT)过渡层的硅基Pb(Zr0 .5 3Ti0 .47)O3(PZT)铁电薄膜 ,顶电极和底电极分别为溅射的金属钛铂层和低阻硅。在低温退火条件下得到了
深X射线光刻是制作高深宽比MEMS结构的一个重要方法。提出一种基于硅工艺和双面对准技术的LIGA掩模技术 ,工艺十分简单。采用该掩模 ,可进一步解决深X射线光刻中的重复对准多
衍射光学元件在国防、生产及科研等领域起着越来越重要的作用。衍射光学元件的制作技术主要包括激光或电子束直写、反应离子刻蚀、离子束铣及薄膜沉积。薄膜沉积法具有精确控
形状记忆合金 /硅复合膜驱动的微泵由一个可形变腔体和两个单向硅薄片阀组成。微驱动膜利用NiTi形状记忆合金薄膜相变时具有大的可回复应力和Si衬底膜的反偏置力 ,产生双向往
研制了一种工作在 1 5 5 0nm波长范围内的单模光纤微机械可调式光衰减器。该衰减器利用非硅表面微加工工艺 (这种工艺采用光致抗蚀剂和溅射铜薄膜作为牺牲层 ,电镀铁镍层作为
设计了一种由电磁驱动的微机械可调式光衰减器。这种光衰减器是由电磁驱动插在两对准单模光纤间隙中的挡光片来实现光功率的衰减。并对该衰减器的插入损耗、光衰减量以及电磁
大行程微动工作台是微细加工设备的重要组成部分,针对当前微动工作台行程小,或行程较大而其检测控制复杂等不足,提出了一种“双足式移动”的新原理,并研制了一台双足式大行程