【摘 要】
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采用物理气相传输法（PVT）制备了2英寸Ge掺杂和非掺Si C晶体,并使用二次离子质谱仪（SIMS）、显微拉曼光谱（Raman spectra）仪、体式显微镜、激光共聚焦显微镜（LEXT）和高分辨X射线衍射（HRX
【机 构】
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山东大学晶体材料国家重点实验室,全球能源互联网（山东）协同创新中心
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采用物理气相传输法（PVT）制备了2英寸Ge掺杂和非掺Si C晶体,并使用二次离子质谱仪（SIMS）、显微拉曼光谱（Raman spectra）仪、体式显微镜、激光共聚焦显微镜（LEXT）和高分辨X射线衍射（HRXRD）仪等测试手段对其进行了表征。结果表明,Ge元素可以有效地掺入Si C晶体材料中,且掺杂浓度达到2.52？1018/cm3,伴随生长过程中Ge组份的消耗和泄漏,掺杂浓度逐渐降低;生长初期高浓度Ge掺杂会促使6H-Si C向15R-Si C晶型转化,并随着生长过程中Ge浓度的降低快速地转回6H
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