聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源

来源 :应用光学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：abdusamat128

【摘要】

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利用电子束离子源(EBIS)或者电子束离子陷阱(EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面,离子束与靶面作用并复合辐射特征X射线;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为

【作者】

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王凯歌王雷王鹏业牛憨笨

【机构】

：

中科院,西安应用光学研究所,中科院,中科院

【出处】

：

应用光学

【发表日期】

：

2004年1期

【关键词】

：

微束斑X射线源电子束离子源电子束离子陷阱离子光学聚束系统 microfocal X-ray source electron beam ion source

【基金项目】

：

国家自然科学基金

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利用电子束离子源(EBIS)或者电子束离子陷阱(EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面,离子束与靶面作用并复合辐射特征X射线;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑X射线.本文介绍这一新型微束斑X射线源的结构、机理及其特性等.

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