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《电镀与精饰》2007年第6期
《电镀与精饰》2007年第6期
来源 :表面工程资讯 | 被引量 : 0次 | 上传用户:himayu
【摘 要】
:
化学镀Ni-P合金镀层孔隙率的影响因素;聚乙烯亚胺对Si3N4纳米微粒复合刷镀的影响;金属离子共掺杂TiO2薄膜的光催化性能研究;45钢表面玻璃防护涂层的性能;压延铜箔电镀Zn-Ni合金工
【出 处】
:
表面工程资讯
【发表日期】
:
2007年5期
【关键词】
:
《电镀与精饰》
NI-P合金镀层
光催化性能
TIO2薄膜
SI3N4
聚乙烯亚胺
ZN-NI
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化学镀Ni-P合金镀层孔隙率的影响因素;聚乙烯亚胺对Si3N4纳米微粒复合刷镀的影响;金属离子共掺杂TiO2薄膜的光催化性能研究;45钢表面玻璃防护涂层的性能;压延铜箔电镀Zn-Ni合金工艺研究。
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