硅片在高温工艺中二次缺陷的形成及控制

来源 :电子材料（机电部） | 被引量 : 0次 | 上传用户：daxiang11

【作者】

：

张丽珍

【出处】

：

电子材料（机电部）

【发表日期】

：

1992年9期

【关键词】

：

半导体器件硅片高温缺陷控制

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