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分步光刻机是制作VLSI和ULSI的关健设备,是光学微细加工技术的中坚。本文概述了它的主要特点及其发展趋势,阐明了研制我国自己的分步光刻机的必要性和重要性。回顾了机电部第四十五研究所研制分步光刻机的历史进程,展望了该所“八五”、“九五”期间的研究前景。最后就如何提高我国分步光刻机的研究水平、加快研究步伐提出了建议。