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利用脉冲激光烧蚀CNx靶，在室温至450℃基片温度时沉积CNx薄膜．利用扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、X射线光电子谱（XPS）和拉曼光谱（Raman）等对CNx薄膜的表面形貌、化学成分、结晶性以及价键状态进行了分析．结果表明：所得CNx薄膜呈非晶状态，表面形貌与沉积温度密切相关，基片温度高于150℃时薄膜表面较为光滑．随着基片温度的增加，薄膜中C—N键的面积分数从31．2％逐渐减少至14．1％，N—sp^3C和N—sp^2C键的面积分数随之减少，300℃时最利于形成sp^3键．Raman光谱中