【摘 要】
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光刻自动化是当前国内外发展集成电路工艺设备的重要趋势.本文通过对二个平面刚体的对(淮十)原理的分析,给出对(淮十)方程的一般形式.文中对光电信息的获得与处理,按宽度调制
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光刻自动化是当前国内外发展集成电路工艺设备的重要趋势.本文通过对二个平面刚体的对(淮十)原理的分析,给出对(淮十)方程的一般形式.文中对光电信息的获得与处理,按宽度调制的断续调节系统,硅片高反差标记符号等方面进行了理论分析,指出了解决问题的途径.文中对系统的误差和实验结果也作了分析.
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