【摘 要】
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利用电子透射显微镜(TEM)和俄歇分析仪(AES)观察硅片直接键合界面结构,在界面存在一个小于2nm厚的非晶区-硅氧化物。此界面具有良好的吸杂效应,在同一退火温度下,退火时间愈
【机 构】
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东南大学电子工程系,东南大学电子工程系,东南大学电子工程系 江苏南京210018,江苏南京210018,江苏南京210018
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利用电子透射显微镜(TEM)和俄歇分析仪(AES)观察硅片直接键合界面结构,在界面存在一个小于2nm厚的非晶区-硅氧化物。此界面具有良好的吸杂效应,在同一退火温度下,退火时间愈长,吸杂现象愈明显。因此键合界面的存在改善了晶体管的性能。
The direct bonding interface structure of silicon wafers was observed by electron transmission microscope (TEM) and Auger analyzer (AES). There was an amorphous region less than 2 nm in thickness at the interface. This interface has a good gettering effect, the same annealing temperature, the longer the annealing time, the more obvious phenomenon of gettering. The presence of the bonding interface therefore improves the performance of the transistor.
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