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阐明了低κ介质与铜互连集成工艺取代传统铝工艺在集成电路制造中所发挥的关键作用。依照工艺流程，介绍了如何具体实现IC制造多层互连工艺：嵌入式工艺、低κ介质与平坦化、铜电镀工艺与平坦化；阐述了工艺应用现况与存在的难题，给出了国际上较先进的解决方法。
低k介质与铜互连集成工艺
【摘 要】
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阐明了低κ介质与铜互连集成工艺取代传统铝工艺在集成电路制造中所发挥的关键作用。依照工艺流程，介绍了如何具体实现IC制造多层互连工艺：嵌入式工艺、低κ介质与平坦化、铜电
【机 构】
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河北工业大学微电子所
【出 处】
：
微纳电子技术
【发表日期】
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2006年10期
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