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在200keV离子注入机上设计和建造了一个多功能靶室,它装有:(1)四源真空蒸发沉积系统;(2)石英晶体膜厚计;(3)高低温度温靶;(4)“原位”四探针电阻测量系统。用本装置制备了离子束混合非晶态Al-Mn合金薄膜,并“原位”测量了薄膜的电特性。
一种薄膜离子束冶金学研究用多功能靶室
【摘 要】
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在200keV离子注入机上设计和建造了一个多功能靶室,它装有:(1)四源真空蒸发沉积系统;(2)石英晶体膜厚计;(3)高低温度温靶;(4)“原位”四探针电阻测量系统。用本装置制备了离
【机 构】
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武汉大学离子束物理实验室,武汉大学离子束物理实验室,武汉大学离子束物理实验室武汉海军工程学院
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1989年5期
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