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采用反应溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜，并通过ＸＲＤ，ＨＲＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究。结果表明：ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜有较好的调制结构。小调制周期时，ＡｌＮ调制层以ＦＣＣ结构在ＴｉＮ调制层上外延生长。调制周期增大，ＡｌＮ调制层中出现六方晶型。ＴｉＮ／ＡｌＮ的显微硬度随调制周期的减小单调上升，并在调制周期＾＝２ｎｍ时达到最高值ＨＫ３２９３。硬度的增高极有可能是小调