【摘 要】
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一体式部分亚硝化-厌氧氨氧化(CPNA)工艺的脱氮性能常因亚硝酸盐氧化菌(NOB)大量增殖导致的N03--N积累而恶化.本研究通过连续试验考察长期低剂量投加羟胺(NH2OH)对CPNA工艺原
【机 构】
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中国科学院生态环境研究中心,环境模拟与污染控制国家重点联合实验室,北京100085;中国科学院生态环境研究中心,水污染控制实验室,北京100085;中国科学院大学,北京101408
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一体式部分亚硝化-厌氧氨氧化(CPNA)工艺的脱氮性能常因亚硝酸盐氧化菌(NOB)大量增殖导致的N03--N积累而恶化.本研究通过连续试验考察长期低剂量投加羟胺(NH2OH)对CPNA工艺原位恢复及其长期运行稳定性的影响.结果表明,低剂量投加NH2OH(1.5 mg?L-1)可快速原位恢复CPNA工艺,TN去除率在45 d内从18.6％恢复至82.2％,ANO-3-N/ANH+4-N比值从0.73±0.05下降至0.13±0.03;以相同方式在100 d内持续投加NH2OH,CPNA工艺的TN去除率长期保持在82.2％±4.9％,ANO3--N/ANH+4-N比值可长期稳定在0.13±0.03.16S rRNA高通量测序结果表明,羟胺投加期间,脱氮功能菌群变化显著,Nitrospira的丰度从28.22％下降到2.74％,厌氧氨氧化菌Candidatus Kuenenia丰度从初始的3.43％明显增长到22.86％.低剂量投加羟胺可有效促进CPNA工艺的快速原位恢复,并保持其长期稳定运行.
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