含氟膦、胂叶立德的质谱研究

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本文报道37个含氟膦、胂羰基的叶立德衍生物的电子轰击(EI)和8个含氟胂羰基的叶立德的甲烷化学电离(CI)正、负离子质谱.研究其断裂规律,氧和氟原子重排以及不同取代基对一些特征离子强度的影响. In this paper, the electron impact (EI) and the chemical and ionization (CI) positive ion and cation mass spectrometry of 37 ylide derivatives containing fluorophosphine and arsino carbonyl were studied, and the fragmentation regularity of oxygen and fluorine atoms Rearrangement and the influence of different substituents on some characteristic ionic strength.
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