【摘 要】
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采用热丝化学气相沉积法（HFCVD）在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜。利用XRD、拉曼光谱和原子力显微镜（AFM）研究了灯丝与衬底间距（5～10mm），灯丝温度（1800～1400℃）和衬底温度（320—205℃
【机 构】
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大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性国家重点实验室
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采用热丝化学气相沉积法（HFCVD）在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜。利用XRD、拉曼光谱和原子力显微镜（AFM）研究了灯丝与衬底间距（5～10mm），灯丝温度（1800～1400℃）和衬底温度（320—205℃）对薄膜晶体取向、晶化率、晶粒尺寸以及形貌的影响规律。结果表明，随着热丝与衬底间距增加，多晶硅薄膜的晶化率和晶粒尺寸明显减小；随热丝温度的降低，薄膜的晶化率都出现了大致相同的规律：先不断增大后突然大幅减小。
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