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采用常压固相烧结工艺,制备出高纯度、高致密度的氧化钨靶材。考察了粉体粒度、成型压强、烧结温度和保温时间等对靶材致密度的影响。测试结果表明,以粒度0.27μm的粉体为原料,成型压强为60MPa,烧结温度为1200℃,保温时间为1h的条件下,可以制备出高致密度的氧化钨靶材,其组成为高纯的单斜晶相。
常压烧结制备氧化钨陶瓷靶材的致密化研究
【摘 要】
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采用常压固相烧结工艺,制备出高纯度、高致密度的氧化钨靶材。考察了粉体粒度、成型压强、烧结温度和保温时间等对靶材致密度的影响。测试结果表明,以粒度0.27μm的粉体为原
【机 构】
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深圳大学材料学院,株洲硬质合金集团有限公司
【出 处】
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陶瓷学报
【发表日期】
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2012年1期
【基金项目】
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深圳市科技研发资金基础研究计划（编号：JC201005280446A）
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