新型URE-2000S型紫外单、双面深度光刻机研制

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【摘要】

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重点介绍新近开发的用于单、双面深度曝光的URE-2000S新型紫外光刻设备的技术背景、工作原理、结构组成、技术措施以及总体性能.该设备采用了国内首创的CCD图像底面对准技术

【作者】

：

马平杨春利胡松赵立新

【机构】

：

中国科学院光电技术研究所

【出处】

：

微纳电子技术

【发表日期】

：

2005年8期

【关键词】

：

双面光刻底面对准深度曝光掩模样片 double-side lithography bottom side alignment deep-lithog

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重点介绍新近开发的用于单、双面深度曝光的URE-2000S新型紫外光刻设备的技术背景、工作原理、结构组成、技术措施以及总体性能.该设备采用了国内首创的CCD图像底面对准技术、单曝光头实现双面对准曝光,具有双面套刻对准精度高、操作简单、工作高效等优点.实验表明,该设备总体性能处于国产双面光刻的先进水平,接近国外同类产品水平.

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