对准精度是影响套刻精度的关键因素，对准系统作为光刻机非常关键的一部分，它与镜头、工件台并称为光刻机三大核心，对光刻机的整机性能......

主要论述了底面对准光刻机的对准原理、工作台结构以及对准标记的形式和尺寸的选择。...

硅片对准标记中心位置的求解是掩模与硅片底面自动对准的重要环节.对于对称标记图像,提出了基于矩的中心位置求解方法;对于非对称......

微电子技术的不断发展,对光刻设备精度的要求越来越高,特别是在一些特殊器件的制作领域,要求基片多次曝光后必须达到较高的套刻精......

重点介绍新近开发的用于单、双面深度曝光的URE-2000S新型紫外光刻设备的技术背景、工作原理、结构组成、技术措施以及总体性能.该......

讨论了双面对准光刻机的底部对准原理，并着重介绍了图像处理在高精度光刻机中的应用.通过对采集到的标记图形进行图像分割和边缘定......

介绍了光刻机底面对准系统的基本原理，并分析了传统底面对准系统存在的缺点，给出了基于USB2．0与CPLD的光刻机底面对准新系统的设计方......

比较了光刻机中几种常用的对准方式,并分析了其优缺点,在此基础上对双面深度光刻机底面对准系统的设计原理、结构及对准过程做了详......

主要论述了底面对准光刻机的对准原理、工件台结构以及对准标记的形式和尺寸的选择 Mainly discusses the alignment of the bott......