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高纯铝主要应用于半导体工业，约占95％。铝的最低纯度为99．999％，每种杂质的最大含量0.4ppb（十亿分之）。阴极溅镀靶在工业生产中，尤其是芯片制造时，阴极溅镀是一种必不可少的工艺，是一项纯高精技术。计算机储存硬盘通常是用高纯铝或高纯铝合金制造的。日本生产的硬盘占世界市场的70％。
高纯铝的应用
【摘 要】
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高纯铝主要应用于半导体工业，约占95％。铝的最低纯度为99．999％，每种杂质的最大含量0.4ppb（十亿分之）。阴极溅镀靶在工业生产中，尤其是芯片制造时，阴极溅镀是一种必不可少的工艺，是一项
【出 处】
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轻金属
【发表日期】
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2016年1期
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