脉冲偏压电弧离子镀Ti／TiN纳米多层薄膜的结构与硬度

来源 :材料热处理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：johnwangjohn

【摘要】

：

采用脉冲偏压电弧离子镀设备在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层硬质薄膜,通过仅改变偏压幅值的方法进行对比实验.XRD分析和薄膜断截面SEM形貌显示出薄膜的纳米多层组织结构;

【作者】

：

李谋李晓娜林国强张涛董闯闻立时

【机构】

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大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室

【出处】

：

材料热处理学报

【发表日期】

：

2005年6期

【关键词】

：

脉冲偏压电弧离子镀 Ti/TiN纳米多层硬质薄膜 Film preparationHardnessIron platingNanostructured ma

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采用脉冲偏压电弧离子镀设备在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层硬质薄膜,通过仅改变偏压幅值的方法进行对比实验.XRD分析和薄膜断截面SEM形貌显示出薄膜的纳米多层组织结构;硬度测试表明纳米多层薄膜硬度随脉冲偏压升高而升高,在-900V时超过同等条件制备的TiN单层薄膜,硬度高达34.1GPa;分析表明硬度的提高主要与脉冲偏压工艺对薄膜组织的改善有关;用脉冲偏压电弧离子镀可以制备纳米多层硬质薄膜,并且在工艺控制上相对简单.

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