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研究不同生长温度下的ＩｎＰ／ＡｌＧａＩｎＡｓ／ＩｎＰ材料ＬＰ－ＭＯＣＶＤ生长，用光致发光和Ｘ射线双晶衍射等测试手段分析了其材料特性，得到了室温脉冲激射１．３μｍ ＡｌＧａＩｎＡｓ有源区ＳＣＨ－ＭＱＷ结构材料，为器件制作研究打下了基础。
生长温度对长波长InP／AlGaInAs／InP材料LP—MOCVD生长的影响
【摘 要】
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研究不同生长温度下的ＩｎＰ／ＡｌＧａＩｎＡｓ／ＩｎＰ材料ＬＰ－ＭＯＣＶＤ生长，用光致发光和Ｘ射线双晶衍射等测试手段分析了其材料特性，得到了室温脉冲激射１．３μｍ ＡｌＧａＩｎＡｓ有源区ＳＣＨ－ＭＱＷ结构材料，为器件制作研究打下了基础。
【机 构】
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国家光电子工艺中心中国科学院半导体研究所
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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1999年12期
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