【摘 要】
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选用阴离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(AES,体积分数0.1%)和非离子表面活性剂异辛醇聚氧乙烯醚(JFC-E,体积分数0.25%)复配的清洗液(pH=10.3)去除铜布线化学机械抛光(CMP)后表面残留的SiO2颗粒。研究了2种表面活性剂的体积比对复配溶液的润湿性能、在铜表面的吸附情况、清洗效果和对清洗后铜表面状态的影响。结果表明,按AES和JFC-E的体积比2∶3复配的清洗液具有最佳的润湿性能和吸附效果,并且对颗粒的去除效果最好,对铜表面状态的影响最小。
【机 构】
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河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金(61704046),国家科技重大专项(2016ZX02301003-004-007),河北省自然科学基金(F2018202174,F2018202133)。
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选用阴离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(AES,体积分数0.1%)和非离子表面活性剂异辛醇聚氧乙烯醚(JFC-E,体积分数0.25%)复配的清洗液(pH=10.3)去除铜布线化学机械抛光(CMP)后表面残留的SiO2颗粒。研究了2种表面活性剂的体积比对复配溶液的润湿性能、在铜表面的吸附情况、清洗效果和对清洗后铜表面状态的影响。结果表明,按AES和JFC-E的体积比2∶3复配的清洗液具有最佳的润湿性能和吸附效果,并且对颗粒的去除效果最好,对铜表面状态的影响最小。
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