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以基本的红外辐射理论为依据,阐述了红外焦平面阵列非均匀性校正的物理原理,首次综合性地论述了标定类方法所存在的三个基本限制因素,并重点给出了红外焦平面阵列响应漂移的实验结果.
红外焦平面阵列基于黑体的非均匀性校正方法中的限制因素
【摘 要】
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以基本的红外辐射理论为依据,阐述了红外焦平面阵列非均匀性校正的物理原理,首次综合性地论述了标定类方法所存在的三个基本限制因素,并重点给出了红外焦平面阵列响应漂移的
【机 构】
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华中科技大学光电子工程系,华中科技大学图像识别与人工智能研究所
【出 处】
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红外技术
【发表日期】
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2003年3期
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